日本東北大學(xué)大學(xué)院工學(xué)研究科納米力學(xué)專業(yè)閻紀(jì)旺準(zhǔn)教授及廚川常元教授的研究小組利用納秒脈沖激光照射,成功完成了單晶硅加工變質(zhì)層的完全修復(fù)。這是一種通過使用高頻納秒脈沖激光,同時(shí)完全消滅單晶硅加工物表面的非結(jié)晶層的單晶化和位錯(cuò)的方法。該方法有以下四個(gè)特征。(1)由于絲毫不剔除材料,底板的形狀精度可維持原樣;(2)可使用高頻納秒脈沖激光器在極短時(shí)間內(nèi)修復(fù);(3)完全不排放化學(xué)廢液,是對(duì)環(huán)境無(wú)負(fù)面影響的清潔技術(shù);(4)能夠用于形狀復(fù)雜的工件,進(jìn)行局部選擇性修復(fù)和表面構(gòu)成控制。
該方法可以使生成無(wú)缺陷的單結(jié)晶表面成為可能,有望在半導(dǎo)體底板及光學(xué)元件領(lǐng)域,實(shí)現(xiàn)新的制造工藝。是東北大學(xué)機(jī)械系研究的文部科學(xué)省21世紀(jì)COE項(xiàng)目之一――“納米技術(shù)基礎(chǔ)機(jī)械科學(xué)新領(lǐng)域”(項(xiàng)目負(fù)責(zé)人:莊子哲雄教授)的綜合研究項(xiàng)目之一,部分研究得到了新能源產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合開發(fā)機(jī)構(gòu)(NEDO)產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究資助事業(yè)的幫助。研究成果的一部分已在國(guó)際學(xué)術(shù)雜志《半導(dǎo)體科學(xué)與技術(shù)(SemiconductorScienceandTechnology)》上刊登。